笔趣阁 > 新科学时代 >第116章 对光源系统的改进
    即便郭一这样说了,林欣还是久久没有平静下来。

    这概念,就算是幻想,大概也没人这么想过吧

    人工制造类蛋白无机物大分子,还要有蛋白质的功能和特性,进而形成“无机物仿造人”这种无机生物存在的物质基础

    这就是天才的脑回路吗

    不管能不能成,光是这想法本身,那就是一件壮举

    林欣想了许久,只觉得郭一的这想法实在是太疯狂,再想下去,自己怕不是要疯,于是问道:

    “那个,什么,系统改造的事情怎么样了”

    “哦,现在还没完,比我预想的做的多了一些,而且光的邻近效应的修正算法比我的要复杂的多,耽误了一些功夫。”

    郭一说道:“不过没关系,我已经联系徐阳,把一些简单的改造设计好基础框架之后交给他们去实现了。我这边马上就完工,看徐阳那边的进度吧,最慢预计后天也就能结束。”

    这些天,林欣闲着没事儿的时候,也了解了一些光刻的常识。

    知道在超大规模集成电路的工艺中,193nm光刻波长的衍射、干涉等光学临近效应会形成致命问题。

    她虽然不知道这个修正算法的难度有多大,但想来也会简单。

    经过这些日子的了解,林欣可是知道,除了光刻机镜头之外,解决光衍射、干涉等光学临近效应的问题,也是光刻机技术突破的关键因素。

    如果光学临近效应这个问题能够解决,28nm甚至7nm级别的光刻机技术就又能向前一步了

    国内厂商,苦苦研究十几年而不得的技术,郭一说改进就改进了

    “其实也没有那么难,只要细致观察,仔细推理,这其中的修正方案也并不难实现。”

    郭一说道:“无非是改进了一下修正模型,使得建立的光刻模型更加精确、计算速度更快了一点,仅此而已。”

    “模型更精确,速度反而更快了,还说仅此而已”林欣嘟囔道:“真是一个非人类。”

    “哈哈”郭一可是注意到了,林欣说这话的时候,那可是满脸的骄傲神色。

    “常工,这升级方案看起来有一些怪异啊,我怎么有些看不懂”

    郭一领人改造光刻机系统的时候,a1厂的升级改造也在稳步就班的进行着,何兴也是一边调整着设备的参数,一边跟身旁的常凯聊着。

    “怎么看不懂啊我看这数据很清晰,该怎么做也很明了啊,何工,你有哪儿看不懂”常凯说道。

    “常工,我不是说实施方案看不懂。”何兴说道:

    “我是说,这样升级原理,我完全没搞明白。这样的升级就能实现7nm的生产吗

    经过我的测算,这样改造之后,工艺制程不但难以升级,不降级就不错了。”

    “成与不成的,等过几天就知道了。”

    常凯其实也早就发现了,这样的改变,根本不足以改进生产工艺,只不过他想的比何兴更加深入了一些,其中太过复杂,不是一句话两句话能说清楚的。

    不仅何兴和常凯,几乎所有参与这次升级改造工作的工程师都发现了这样的情况,甚至还有人跟安城跟郭一确认过,是不是方案有什么问题。

    但郭一确认,就按这个方案实施,其他的让他们不用管。

    在各位工程师的眼里,这样的改造比起14nm的工艺甚至有一些倒退,但是,工作既然是这样安排的,郭一既然如此的有信心,那就折腾一番也无妨。

    实在不行,也就是耽误几天生产的事儿,大不了之后再改回来就是了,也不费多大的功夫。

    如果不是郭一露了一手在先,人还没到就把28nm的工艺升级成14nm了,那今天再让这些工程们做今天这样的事情,所有人都会质疑,甚至是会反对的。

    但现在,他们虽然都发现了端倪,但经过郭一确认后,他们都没再吱声。

    老老实实的按照郭一的方案改造着,一边改造,还一边在思考,这其中究竟有没有什么特别的用意我究竟有没有哪个地方疏忽还是漏掉了

    这就是权威的作用,只露了一手的郭一,现在在这些工程师眼里,那已经成了权威。

    废话,全世界没人能做到的事情,人家没露面就做到了,这还不是权威,那什么才是权威

    何兴瞅了瞅常凯,心里有些不安:难道这家伙已经看懂这些改造的端倪了他怎么就这么淡定这么从容

    芯片生产工艺本身就是一个极为复杂的过程,牵一发而动全身,考虑不周的情况实在是不罕见。

    确实会存在某个步骤误差比较大,却是故意而为的情况。

    其目的就是为了冲抵另一个过程造成的误差,这是一种冲抵矫正方案。

    完成了自己的工作之后,何兴又仔细的研究了一遍整体的方案,还是没有发现任何的端倪。

    在现有的光刻机条件下,这样的改造确实提升不了生产工艺和良率,反倒会增加曝光后图形的偏差。

    “等等现有的光刻机条件”何兴突然意识到了什么:“郭工现在可是不在啊,他干什么去了莫非”

    一个大胆的念头从何兴的脑海里冒了出来:那就是升级光刻机

    升级硬件当然是不可能的,但升级软件

    “光学临近效应引起的图像偏差问题”何兴立即意识到问题的关键所在。

    他一直在a1厂,这台光刻机他可以说是了如指掌,光刻机的控制程序确实有可以升级的空间,他们一直也跟厂家有反馈。

    但,那都是小打小闹似的升级。

    “如果,彻底改造控制程序,进一步修正193nm极限工艺下的邻近效应导致的曝光图像偏差问题”

    何兴脑洞大开,有了这样的想法,即便知道没什么可能,他还是立即对这个方案进行了计算验证。

    不计算还好,这一计算,何兴是直接被惊到了郭一的改造方案竟然真的是照着这个思路再走

    换言之,郭一的改造方案就是这个

    “他竟然真的能够进一步改进光学邻近效应引起的图像偏差”

    看着最终的计算的数据竟然如此吻合,何兴也是直接瘫在了椅子上:

    “他也不是生产光刻机的专家啊,这可能吗这这要让魔都微电子知道了,他们不得疯掉啊这哪是改进生产工艺啊,这直接是改造光刻机了都”

    即便何兴不是光刻机的专业人士,他也知道光刻机最大的两个核心部件,一个就是镜头,另一个就是光源。

    光源最核心的问题,其实就是修正这个光学临近效应引起的图像偏差。


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